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超高壓水霧化制粉(制粒)裝置

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產品介紹
參數

1) 超高壓水霧化制粉(制粒)裝置用途:

  超高壓水霧化制粉(制粒)裝置是為滿足在大氣條件下進行水霧化制粉生產需要而開發設計的一種霧化制粉設備,即適于工業化量產,也適于小批量生產和產品研發。

2) 超高壓水霧化制粉(制粒)裝置原理:

  超高壓水霧化制粉(制粒)裝置在常壓環境下工作,金屬(合金)爐料通過感應加熱爐熔煉,在爐料熔化并達到霧化溫度后,操作人員將熔融液態金屬傾倒進保溫中間包,液態金屬會通過中間包底部導流管,形成液態金屬柱進入霧化室,在此過程中,受到來自超高壓噴嘴(噴盤)的水流強烈沖擊,液態金屬會形成大量微細金屬液滴,金屬液滴在飛行、沉降過程中受到表面張力作用會球型化,同時由于水冷作用快速冷固化(不規則化),這兩個過程同時進行,最終的型貌是上述共同作用的結果,形成亞球形或不規則形微粒——金屬粉末。

3) 超高壓水霧化制粉(制粒)裝置特點:

  ○ 可制備絕大多數金屬及其合金的粉末,且生產成本較低;

  ○ 可制備亞球形粉末或不規則型粉末,型貌取決于實施工藝;

  ○ 熔煉過程的電磁攪拌作用和霧化中快速凝固,使最終粉末無偏析現象,可制取特殊合金或非晶粉末。

  ○ 工藝及參數可調整,可制取不同型貌、不同粒度的粉末,以滿足對粉末粒度等指標的復雜要求。

  ○ 采用超高壓水超高壓水霧化制粉設備,可以制備相對氣霧化方法更細的粉末;

4) 超高壓水霧化制粉(制粒)裝置構成:

  中頻熔煉爐、保溫中間包、霧化系統、超高壓水系統、粉料收集、脫水、干燥系統、篩分系統、冷卻水系統、控制系統、鋼結構平臺等。

5) 超高壓水霧化制粉(制粒)裝置控制:

  根據用戶要求,控制系統可以集成到操作臺,所有操作及相關數據都傳輸給該系統的PLC,實現運算、顯示、處理、保存、控制等功能。

 

技術參數

型號

MD-PF(W-)+DL(D)

30/50-4.0

MD-PF(W-)+DL(D)

50/70-2.5

MD-PF(W-)+DL(D)

100/100-2.5

MD-PF(W-)+DL(D)

250/160-1.0

MD-PF(W-)+DL(D)

500/250-1.0

MD-PF(W-)+DL(D)

1000/400-1.0

高壓水壓力

0-100MPa

高壓水流量

50 - 800L/min

裝爐重量kg(毛重〉

30

50

100

250

500

1000

最高熔化工作溫度

1750℃

測溫電偶

WRe5.26

中間包加熱功(KW)

20

20

20

20

20

20

中間包加熱方式

液化氣、感應式

熔煉加熱功率(KW)

50

70

100

160

250

400

配置

 

 

電源

3相 AC 380V 50HZ

冷卻水消耗

150L/min

300L/min

400L/min

700L/min

冷卻水分流裝置

開放式、水冷機組或板式換熱器

外形尺寸(mm)

3000×4000×2500

3000×4000×2500

4000×4000×3500

4000×4000×4500

5000×5000×5000

5000×6000×5000

操作

 

控制

繼電器或PLC程序控制(多量程輸入、工藝曲線存儲)

操作界面

按鍵式或觸摸屏

保持工藝

12條工藝曲線

數據記錄

12條數據曲線記錄

數據讀取

CF卡(附帶讀卡器〉

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